近来，有新闻媒体报道称，荷兰决议撤回ASML对中国出口部分产品的许可证，荷兰表明，这是由于忧虑ASML的芯片制作设备被用于军事意图，真是离了个大谱啊。 咱们咱们都知道，ASML的产品按挡次可大致分为EUV光刻机
台积电2nm芯片发动，学习三星，扔掉老掉牙的FinFET，选用GAAFET
在芯片工艺中，有一个中心目标，叫做“线宽”。 什么叫线宽？指的是芯片的最小电路蚀刻宽度，线宽越窄，单位面积所能刻蚀的晶体管数量就越多，功能也就越强。 但线宽不可能无限缩小，由于电路要正常通电，至少也要维持着几十上百个原子的宽度，不可能继续的，无限的缩小的
不论咱们供认不供认，现在在先进工艺上，中国大陆较世界领先水平仍是有必定距离的，比方台积电、三星进入了3nm，而咱们呢？明面上只要14nm，暗地里，就不清楚了。 一起从产能上，就算咱们有7nm工艺，其产能也是十分少的，不然Mate60系列，现在都无法敞开供应，首要是由于麒麟9000S产能不行啊
快科技1月2日音讯，台积电宣告，坐落日本的第一家晶圆厂将于2月24日正式倒闭，下半年正式投产。 台积电日本晶圆厂坐落熊本县邻近，将出产N28 28nm级工艺芯片，这是日本现在最先进的半导体工艺。 22ULP工艺也会在这儿出产，但留意它不是22nm，而是28nm的一个变种，专用于超低功耗设备
一台近30亿元！ASML下一年出产10台全新EUV光刻机：Intel独吞6台
集邦咨询的陈述数据显现，ASML阿斯麦将在2024年出产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，其间Intel就定了多达6台。一起，三星星也在活跃比赛新光刻机，台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要目标，直接决议了光刻的实践分辨率，以及最高能到达的工艺节点
众所周知，现在的芯片工艺均是光刻工艺，即经过光学--化学反应原理，用光线将电路图传递到涂了光刻胶硅晶圆上，构成有用的电路图形。 而芯片十分小，电路图很杂乱，一颗芯片乃至几十层电路路，而用晶体管密度来看，现在的3nm工艺下，每一平方毫米，更是到达了近2亿个晶体管，所以光刻工艺很杂乱和精密
